序號

性能指標名稱

要求參數值

*

適用基材

透明導電玻璃、硅片等基材

*

適用基材尺寸

玻璃≥*****×*****，硅片≥*****×*****

*

涂膜面積

玻璃有效涂膜面積≥***×*****，硅片需滿涂

*

固含量

*-**%

*

適用基材厚度

玻璃：*.*~*.***

硅片：*.*~*.***

*

涂布厚度

*.*-**μ*（干膜）

*

涂布速度

*-*****/*，速度可調，速度精度*.***/*

*

涂布方式

狹縫涂布

*

薄膜均勻性

片內薄膜不均度≤*%（采用*點測試法，以上、下、左、右、中心*點為測量基準，計算方式為**=(****-****)/(****+****)，*為膜厚），片間薄膜不均勻度≤*%（計算方式為**=(*******-*******)/(*******+*******)，*為膜厚），玻璃背面無污染。（設備連續工作**個工作日均滿足）

**

適用溶劑體系

水性、油性、有機溶劑等溶劑型涂料

**

設備配備雙龍門

每套龍門各配*套模頭、*套供液系統

**

涂硅片

設備可通過更換“吸附平臺、模頭”等組件的方式，切換為涂覆硅片的設備。所需的吸附平臺及模頭由廠家配齊

**

硅片取放

設備配備頂升裝置，便于取放硅片

**

預涂功能

設備配備預涂區域或預涂輥

**

平移系統

保證龍門或吸附平臺的平穩移動，調平后刀頭與平臺的相對平行度＜**μ*

**

涂布模頭

采用流體仿真設計涂布模頭，刀頭直線度（*）≤*μ*，粗糙度**≤*.***；唇口直線度（*）≤*μ*，提供第*方專業檢測報告

**

模頭數量配置

涂玻璃模頭配備*個，涂硅片模頭配備*個

**

涂布模頭材質

不銹鋼合金，具有良好的耐腐蝕性能，可拆卸清洗，防形變

**

模頭升降

模頭升降采用高精度伺服電機方式驅動；可自動調整唇口與被涂基材的間隙。涂膜高度依基板厚度自動調節，可手動設置補償功能。左右兩側可自動調平（調節模頭唇口與被涂基板的平行度），自動調平后，狹縫模頭水平校準誤差精度≤±*μ*

**

墊片厚度

*.**/*.**/*.***

**

功能模塊

涂布模頭具有防撞、快速充液和排泡功能（快速充液和排泡功能滿足對供液泵、模頭及管路進行充液和排泡。從空模頭、空漿料罐狀態到可進行涂膜狀態之間間隔不得超過*****）

**

基臺及材質

整機攜有大理石承重減震基底平臺

**

基材測距

每次涂膜前，可自動檢測當前基板高度（厚度），同*片基板高度（厚度）檢測誤差≤*μ*

**

注液泵

注液泵應能保證漿料擠出均勻連續，確保涂膜*致性，其速度精度優于*.*μ*/*；供液速度在*-***μ*/*，速度可調；具備自動補液、補液后自動泄壓及回吸功能

**

自動清洗模塊

設備具備自動清洗模頭功能，自動清洗后，必須保證無藥液殘留，管路及型腔內部無明顯液體凝聚現象；設置模頭清洗區域，配備壓刀槽和排液槽，配合上述自動清洗功能和快速充液、排泡功能

**

吸附平臺

表面平整度≤±*μ*，平臺集成真空吸附系統，大小可調

**

儲液罐及管路

需采用耐腐蝕材料，液體管路需使用半透明材質

**

質量保證

涂布過程中，需要通過程序實時控制注液情況，以確保在涂布前端及涂布結束后，不能出現涂布頭滴液情況

**

防塵和尾廢

設備配備防塵罩及***過濾系統，內部潔凈度保證在千級；配備*色燈及揮發溶劑排風口；機臺具有防液體潑灑特性，避免漿料侵入設備內部，損壞內部關鍵元器件

**

模頭拆裝平臺

需設計模頭拆裝平臺，調平后的平臺平整度≤**μ*。此外，需要配備專用刀頭分解和內部清洗工裝及工具，確定清洗頻次及方法

**

控制方式

高清觸摸屏控制，帶有配方存儲功能，可保存**組以上成熟的工藝參數；可設置各系統功能的啟停、運動軸參數；操作方便簡單

序號

性能指標名稱

要求參數值

*

適用基材

透明導電玻璃、硅片等基材

*

適用基材尺寸

玻璃≥*****×*****，硅片≥*****×*****

*

抽氣速率

大氣壓至****：*≤***，抽真空速度可調；最低可抽至*.***

*

破真空

破真空時間需控制在*-***

*

破真空使用氣體

氮氣或者壓縮空氣

*

真空泵

進口或同等級國產*流品牌干泵，真空泵開啟可在控制臺操作

*

水冷機

設備自帶用于給真空泵冷卻的水冷機

*

真空計

雙真空計或雙量程真空計，用以檢測大氣壓至低壓，并在低壓區域的量程保證*定精度

*

抽氣方式

上抽式設計，需配備勻流板，減弱膜面氣流擾動

**

控制方式

高清觸摸屏控制（或顯示器+鍵盤+鼠標）；可設置***的快慢抽時間、保壓時間等參數；工藝參數可分別編號存儲和導出，具備工藝歷史記錄查看功能

**

安全裝置

防止過高真空造成設備損壞，設有自動壓力調節與安全閥功能

**

功能配置

配有防倒吸，廢氣收集或過濾系統、破空過濾系統、壓力偵測系統；需額外預留*個真空泵接口

序號

性能指標名稱

要求參數值

*

適用基材

透明導電玻璃、硅片等基材

*

適用基材尺寸

≥*****×*****，可向下兼容

*

加熱溫度范圍

室溫~***℃

*

加熱器件

設定*個基材工藝腔體，腔體溫度獨立控制，腔體單獨進料與出料，每個腔體上下兩個加熱器

*

升溫速率

升溫速率可調，≥**℃/***

*

溫度精度

±*℃

*

溫度均勻性

±*℃（采用*點測試法，將*個熱電偶貼在基材上，以上、下、左、右、中心*點為測量基準，進行溫度均勻性測試）

*

尾氣

工藝過程中能有效均勻排出揮發的有機廢氣，排氣速率可調

*

保護氣體

設備可接入氮氣保護氣體，配有預熱腔，確保保護氣體充分預熱

**

隨機工具

附帶取放料工具，避免燙傷

序號

性能指標名稱

技術要求

備注

*.*

真空鍍膜室

*.*.*

材料及結構

真空室采用***不銹鋼，腔體內壁電解拋光處理，減少表?放?；須保留前后門，便于對腔體內部進行維護

*.*.*

觀察窗

由保護玻璃、硬質玻璃組合而成，需符合*射線防護國家標準

*.*.*

腔體漏率

漏率優于*.*×**-****.**/*，保壓**小時后，壓強≤***。

*.*

蒸鍍真空系統

*.*.*

極限真空度

系統潔凈、空置時優于*×**-***

*.*.*

分子泵

抽氣速率不小于*****/*

*.*.*

機械泵

抽氣速率不小于****/*

*.*.*

真空測量時間

大氣環境萬級潔凈間氛圍下從常壓抽至≤*×**-***時間≤*****；

*.*.*

極限真空測量

測量范圍從*×*****到*.*×**-***

*.*.*

真空密封

采用金屬密封和氟橡膠圈密封

*.*

蒸發室基片裝置

*.*.*

基片材料

導電玻璃

*.*.*

樣品尺寸

*****×*****的樣品且可向下兼容更多尺寸

*.*.*

基片托盤

通過電機旋轉*~*****可調

*.*

蒸發源和蒸發電源

*.*.*

蒸發源

配備*組金屬蒸發源和*組有機蒸發源，可兼容蒸鍍金屬、有機及無機材料；源與源之間均配有防止交叉污染的防污板

*.*.*

金屬蒸發電源

配備可編程的直流穩壓金屬蒸發電源*套，金屬蒸發電源功率≥*.***及以上，最高升溫溫度可達****℃，且通過電流控制方式，精確到*.**，并實現蒸鍍速率*.**?/*的精度顯示，可進行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制

*.*.*

有機蒸發電源

配備有機蒸發電源*套；可通過電流或***智能溫控方式進行控制（采用電流控制方式時需精確到*.**，并實現蒸鍍速率*.**?/*的精度顯示，可進行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制；采用***智能溫控方式時控溫精度±*℃）；

*.*.*

控制系統

采用***+**控制方式

*.*.*

安全保護措施

缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護。對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施；完善的程序互鎖，完備的防誤操作設計及保護。

*.*

膜厚監測系統

*.*.*

膜厚儀

不少于*組膜厚儀，不少于*套膜厚檢測探頭

*.*.*

蒸發速率測量精度

*.*~*.**/*(≤±**%)，*.*~**.**/*(≤±*%)

*.*.*

膜厚儀測量精度

膜厚儀測量精度優于±*.**?/*，若鍍膜達到設置厚度，可自動切斷電源，停止鍍膜且擋板關閉

*.*.*

溫度控制精度

±*℃（**~***℃）

*.*.*

厚度測量精度

優于±*?；具備與電源聯鎖功能

*.*.*

片內膜厚不均勻性

≤*.*%（樣品尺寸*****×*****，且在****~*****范圍內的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、***、***、****、****等材料，且由招標方指定材料進行驗證），測試方法：薄膜有效區范圍內*×*排列*點測量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）****%

*.*.*

片間膜厚不均勻性

≤*.*%（樣品尺寸*****×*****，且在****~*****范圍內的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、***、***、****、****等材料，且由招標方指定材料進行驗證），測試方法：薄膜有效區范圍內*×*排列*點測量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）****%。

*.*

自動鍍膜系統

開啟后根據用戶設置的升降溫和蒸發速率參數，自動升溫加熱蒸發材料，按照制定速率蒸鍍，到達設定厚度后自動關閉擋板，并降溫

*.*

水冷系統

*.*.*

冷水機

控溫范圍：*℃~**℃

*.*

工藝支持

投標人提供***和***作為鈣鈦礦器件電子傳輸層的蒸鍍工藝，保證招標方在其他薄膜層制備條件不變時采用該工藝制備電子傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池性能不低于招標方使用旋涂法制備****和***作為電子傳輸層的性能。