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比比招標網> 招標預告 > 高真空多靶磁控濺射鍍膜機（ZBZXJJ20240114）延期公告
| 更新時間 | 2024-04-24 | 招標單位 | 我要查看 |
| 截止時間 | 我要查看 | 招標編號 | 我要查看 |
| 項目名稱 | 我要查看 | 代理機構 | 我要查看 |
| 關鍵信息 | 我要查看 | 招標文件 | 我要查看 |
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高真空多靶磁控濺射鍍膜機（**************）延期公告
| 延期理由： | 由于該項目報價供應商數量不滿足要求，本項目延期至****-**-** **:** 因報價情況不滿足要求，采購方決定延期 |
|---|
| 項目名稱 | 高真空多靶磁控濺射鍍膜機 | 項目編號 | ************** |
|---|---|---|---|
| 公告開始日期 | ****-**-** **:**:** | 公告截止日期 | ****-**-** **:**:** |
| 采購單位 | *川大學 | 付款方式 | 進口設備： 甲方與所委托的進口代理公司簽訂代理進口委托協議后，將進口項目貨款支付給代理公司指定的銀行賬戶，項目貨款僅用于本進口項目的信用證或**付匯及進口相關費用等。進口代理公司收到甲方合同貨款后，按外貿合同要求及時履行與乙方委托的境外代理公司的付款義務。 國產設備：甲方應在完成驗收并建立固定資產后向乙方*次性支付本合同的總款項，乙方須向甲方出具合法有效完整的完稅發票及憑證資料進行支付結算。 |
| 聯系人 | 成交后在我參與的項目中查看 | 聯系電話 | 成交后在我參與的項目中查看 |
| 簽約時間要求 | 到貨時間要求 | ||
| 預算總價 | ￥ ******.** + *** + *** | ||
| 發票要求 | 增值稅普通發票 增值稅專用發票 | ||
| 含稅要求 | |||
| 送貨要求 | |||
| 安裝要求 | |||
| 收貨地址 | *川省成都市雙流縣川大路*段*川大學江安校區 | ||
| 供應商資質要求 | 符合《政府采購法》第***條規定的供應商基本條件 | ||
| 公告說明 | 由于該項目報價供應商數量不滿足要求，本項目延期至****-**-** **:** | ||
| 采購商品 | 采購數量 | 計量單位 | 所屬分類 |
|---|---|---|---|
| 高真空多靶磁控濺射鍍膜機 | * | 臺 | 電子工業生產設備 無 無 |
| 品牌 品牌* | 泰科諾 |
|---|---|
| 型號 | ******* |
| 品牌* | |
| 型號 | |
| 品牌* | |
| 型號 | |
| 品牌* | |
| 型號 | |
| 品牌* | |
| 型號 | |
| 品牌* | |
| 型號 | |
| 預算單價 | ￥?******.** |
| 技術參數及配置要求 | 主要技術參數：*.真空腔室 腔體采用******不銹鋼制作，鍍膜室內凈尺寸: ****×****×****；方箱式，配有前、后門，前門水平滑開式，便于手套箱內操作；后門為側開式門，用于設備清理維護；特點：鍍膜室配置獨立機架，可在脫離手套箱條件下單獨調試，與手套箱之間通過鍍膜室前門框密封連接，對接方便、密封可靠；*.真空系統 復合分子泵+直聯高速旋片式真空泵+高真空閥門+數顯復合真空計；*.真空極限 *.*×**-***（設備空載，抽真空**小時）；*.升壓率 設備升壓率：≤*.***/*（**小時平均值）；設備保壓：停泵**小時后，設備真空度≤****；*.抽速 從大氣抽至*.*×**-***≤*****（設備空載）；*.基片臺 ①基片臺尺寸Φ*****，最大樣品尺寸小于Φ*****；配有基片臺擋板；②旋轉轉速*～**轉/分鐘，可調可控；基片臺與腔室絕緣設計，可加偏壓電源；③加熱:室溫～***±*℃（基片臺環境溫度） ；***智能溫控閉環控溫，可控可調。*.濺射靶及電源 ①配置*套*英寸永磁共焦磁控濺射靶（靶角度、靶基距手動可調），向上濺射；可以濺射磁性材料，磁控靶配有氣動擋板結構；②工作方式：各靶可獨立/順次/共同工作，采用磁控靶從下向上濺射鍍膜；③電源：直流脈沖濺射電源***，數字化控制及顯示，*臺；射頻電源******， 數字化控制及顯示，*臺；脈沖偏壓電源：-***， 數字化控制及顯示，*臺。*.工作氣路系統 質量流量控制器及量程范圍：**，*******；**，******；**，******；*.膜厚不均勻性 ≤±*%（單靶鍍膜，基片臺Φ*****范圍內）；**.控制方式 ***+觸摸屏控制；**.報警及保護 對缺水進行報警并執行相應保護措施；完善的邏輯程序互鎖保護系統；設別主要配置：*.真空腔室 ①結構：采用立式、方形結構，前門為水平滑開式，材質為鍛鋁，可位于手套箱體內部；通過門框法蘭與手套箱密封對接；后門帶鎖緊裝置，在充氣條件下保持腔室密閉與大氣環境隔離；前開門便于蒸發材料和樣片在保護環境下裝卸，后開門便于真空室的清理維護；②材料及尺寸：采用***優質不銹鋼， ****×****×******真空腔室；鍍膜腔室（包括管道、連接法蘭等）均進行清潔處理，內表面電拋等處理，以減少“出氣”量，有利于真空度的提高及耐腐蝕；所有焊縫連接采用氬弧焊接技術，內表面拋光處理；③主要接口分布位置*英寸磁控濺射靶及擋板接口位于腔室底部；基片臺接口、基片臺擋板接口、******電磁放氣閥接口、基片臺加熱器組件接口等從腔室頂部引入；*******抽氣管道接口位于腔室左側；④預留接口：用于功能升級或其它用途；⑤φ*** **觀察窗，配磁力擋板，安裝于前后門上；⑥腔室防污屏蔽板采用優質不銹鋼材質，便于拆卸清理、更換等。*.基片臺 功能：實現對樣品旋轉均勻鍍膜，對樣品均勻加熱除氣，通過樣品臺絕緣設計，可加載負偏壓對樣品進行離子轟擊，清潔樣品表面，提供膜基結合力；①基片臺：不銹鋼抽屜式結構，基片臺尺寸Φ*****，最大樣品尺寸小于Φ*****；可從基片架組件中取出，方便用戶安裝基片；②配有氣動基片臺擋板；③配備通用夾具，方便用戶裝卡各種不同規格尺寸的基片；④絕緣裝置：絕緣設計及絕緣件；⑤基片臺電機驅動：旋轉轉速*～**轉/分鐘，連續可調；主軸磁流體密封；⑥加熱：基片臺環境溫度***℃，采用鎧裝加熱器及絕緣、屏蔽等，具有真空條件下加熱快、抗氧化、壽命長等優點；采用功率調整器和***可編程智能溫度控制儀方式，可以設定分段升溫,速率、保持溫度、保持時間；通過熱電偶的反饋信號，實現加熱溫度自動控制；⑦預留腔室環境加熱接口。*.濺射靶及電源 ①*只*英寸磁控濺射靶，靶角度、靶基距手動可調，永磁間接水冷方式，兼容直流、脈沖、射頻等電源；②靶基距調整范圍**～*****，方便調整最佳鍍膜距離；可濺射磁性材料，鎳靶材*.*㎜厚，非磁性材料*㎜厚；③各濺射靶配獨立擋板，防止交叉污染；④電源：直流脈沖濺射電源***，數字化控制及顯示，*臺；射頻電源******， 數字化控制及顯示，*臺；脈沖偏壓電源：-***， 數字化控制及顯示，*臺。*.真空系統 ①真空機組采用“復合分子泵+直聯高速旋片式真空泵”組合的真空系統；②復合分子泵：抽速****/*；③直聯高速旋片式真空泵：抽速**/*；④前級/旁路閥：****，氣動擋板閥；主閥：*****，氣動插板閥；放氣閥：φ**，電磁截止閥；⑤真空測量：“兩低*高”數顯復合真空計；兩低*高是指兩只電阻規測量低真空，*只電離規測量高真空；測量范圍：從*.*×*****到*.*×**-***； ⑥波紋管材質：******不銹鋼；真空密封：常拆卸密封采用氟橡膠圈密封，不常拆卸密封采用金屬密封。*.工作氣路系統 ①質量流量控制器及量程范圍：**，*******；**，******；**，******；②電磁截止閥：Φ*** ；③混氣管：*進*出；④氣管：**管道，內外拋光金屬管。*.水路系統 ①給分子泵、磁控靶配備獨立的進、出水，可保證設備長時間穩定運行；②總進水設有檢測水溫水壓裝置，檢測水溫水壓狀態，執行異常報警；③總進、出水采用標準的水路寶塔接口連接用戶現場供水系統。*.氣路系統 ①電接點壓力表，用于氣體壓力保護報警；②氣排，用于各閥門之間分氣使用。*..電氣控制系統 ①電氣控制系統：采用***+觸摸屏控制系統，可實現自動*鍵式抽真空，蒸發鍍膜電源采用手動控制，以方便用戶進行鍍膜工藝參數的摸索； ②控制內容：分子泵、機械泵、閥門開關；分子泵電源參數顯示及開關控制；真空計參數顯示及控制；基片臺轉速顯示和控制；③安全保護報警系統：在缺水、水壓過低等情況下的報警系統；完善的邏輯程序互鎖保護系統。*.控制柜與機架 機架和控制柜*體化設計，碳鋼制作，表面噴塑處理，支撐真空腔體、真空系統及電氣控制系統，底下配腳輪，方便移動、定位。 |
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| 售后服務 | 服務年限:**月電話支持:****小時商品承諾:原廠全新未拆封正品質保期:兩年 |
*川大學
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